发明名称 半导体装置
摘要 提供于包含使用相变化材料之记忆格的半导体装置中,可使规范写入速度的设定动作高速化之技术。采用以下手段:施加于相变化材料之设定脉冲电压设为2段,相变化材料之温度藉由第1段电压设为核成长速度最快之温度,于第2段脉冲设为结晶成长最快之温度,使相变化材料不融解而可以固相成长的手段。又,采用:施加于相变化材料之2段脉冲电压,系藉由可减少汲极电流变动之施加于字元线之2段电压予以控制的手段。
申请公布号 TWI417881 申请公布日期 2013.12.01
申请号 TW095137871 申请日期 2006.10.14
申请人 瑞萨电子股份有限公司 日本 发明人 外村修;高浦则克;黑土健三;松崎望
分类号 G11C13/00;H01L27/10;H01L45/00 主分类号 G11C13/00
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本