| 摘要 |
本发明系关于一种在一基板上制备一图案化薄膜之方法，其包括在一基板上施加一聚矽氧组合物以形成该聚矽氧组合物之薄膜。将该薄膜之一部分曝光于辐射以产生一具有一曝光区域及一非曝光区域之部分曝光薄膜。在一足够温度下加热该部分曝光薄膜达一足够时间量以使该曝光区域大体上不溶解于一包括一矽氧烷组份之显影溶剂中。以该显影溶剂来移除该部分曝光薄膜之该非曝光区域，以展现该基板上之无薄膜区域且形成包括保留于该基板上之该曝光区域的该图案化薄膜。由于该显影溶剂中存在该矽氧烷组份，所以该等无薄膜区域大体上不含残余聚矽氧。 |
