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发明名称
一种用于脸部穴位按摩之缓冲装置
摘要
本创作是一种用于脸部穴位按摩之缓冲装置,其包含:一缓冲垫,其具有一外层、一底层、及一夹置于该外层及该底层之间之一缓冲层,其中该外层之设计为符合人类脸部曲线,用以贴附脸部,且该底层之周缘与该外层之周缘相互接合以包覆该缓冲层;及复数个具有磁力之元件,固定于该外层及该缓冲层之间,各该复数个具有磁力之元件系配置于相应脸部的各穴道之位置,藉由脸部压迫该具有磁力之元件及该具有磁力之元件的磁力对脸部产生穴道按摩及磁疗的效果。
申请公布号
TWM466658
申请公布日期
2013.12.01
申请号
TW102214497
申请日期
2013.08.01
申请人
辅英科技大学 高雄市大寮区进学路151号
发明人
池宇佳;蒋立中;唐光生;杨金修;吴姵蓉;李芬
分类号
A61H39/00
主分类号
A61H39/00
代理机构
代理人
林文杰 台北市大安区和平东路3段26号2楼
主权项
地址
高雄市大寮区进学路151号
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