发明名称 面位置检测装置、曝光装置以及元件制造方法
摘要 一种面位置检测装置,可抑制棱镜构件的内面反射面所全反射的光束的由偏光成分引起的相对位置偏移对被检面的面位置的检测所造成的影响且可高精度地检测被检面的面位置。投射系统及受光系统的至少一者包括全反射棱镜构件(7;8),具有使入射光束全反射的内面反射面(7b、7c;8b、8c)。为了抑制全反射棱镜构件的内面反射面所全反射的光束的由偏光成分引起的相对位置偏移对被检面(Wa)的面位置的检测所造成的影响,而设定全反射棱镜构件的光学材料的折射率与相对于全反射棱镜构件的内面反射面的入射光束的入射角满足规定关系。
申请公布号 TWI417508 申请公布日期 2013.12.01
申请号 TW095141268 申请日期 2006.11.08
申请人 尼康股份有限公司 日本 发明人 日高康弘
分类号 G01B11/00;G03F7/20 主分类号 G01B11/00
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项
地址 日本