| 摘要 |
本发明旨在提供一种基板液体处理装置、基板液体处理方法及储存有基板液体处理程式的记忆媒体，可提升基板周缘部之清洗效率。;其中使用包含用以使基板(2)旋转之基板旋转机构(19)、用来以旋转之清洗体(32)清洗基板(2)周缘部之周缘清洗机构(21)与用以对基板(2)供给清洗液之清洗液供给机构(22)之基板液体处理装置(1)，令旋转之清洗体(32)接触旋转之基板(2)周缘部，以清洗液进行清洗时，藉由基板旋转机构(19)基板(2)旋转之旋转方向与藉由周缘清洗机构(21)清洗体(32)旋转之旋转方向系相反方向，于基板(2)与清洗体(32)接触之清洗部分基板(2)与清洗体(32)之前进方向系同一方向，且藉由基板旋转机构(19)基板(2)旋转之旋转速度与藉由周缘清洗机构(21)清洗体(32)旋转之旋转速度之旋转速度比(基板：清洗体)在1：1~3.5：1之范围内。 |
