发明名称 用于光阻之抗反射组合物
摘要 本发明系关于一种用于光阻层之抗反射涂料组合物,其包含聚合物、交联剂及酸产生剂,其中该聚合物包含至少一种具有结构1之单元, (1)其中:A为非芳族键联部分;R'及R"系独立地选自氢、Z及W-OH,其中Z为(C1-C20)烃基部分且W为(C1-C20)烃基键联部分;且Y'独立地为(C1-C20)烃基键联部分。;本发明进一步系关于一种用于使该抗反射涂料组合物成像之方法。
申请公布号 TWI417668 申请公布日期 2013.12.01
申请号 TW096125444 申请日期 2007.07.12
申请人 AZ电子材料IP股份有限公司 日本 发明人 吴恒鹏;向中;庄弘;宣姜惠;殷建;姚晖蓉;路平煌
分类号 G03F7/11;H01L21/027 主分类号 G03F7/11
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 日本
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