发明名称 镀膜件及其制造方法
摘要 本发明提供一种镀膜件,包括基体及藉由磁控溅射镀膜法形成于基体上的Si-B-C-N陶瓷层,该Si-B-C-N陶瓷层为非晶态层,该Si-B-C-N陶瓷层中Si的质量百分含量为30~60%,B的质量百分含量为10~20%,C的质量百分含量为10~20%,N的质量百分含量为20~30%。该镀膜件具有良好的高温抗氧化性。本发明还提供一种上述镀膜件的制造方法。
申请公布号 TWI417409 申请公布日期 2013.12.01
申请号 TW100115406 申请日期 2011.05.03
申请人 鸿海精密工业股份有限公司 新北市土城区自由街2号 发明人 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;张娟
分类号 C23C14/34 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
主权项
地址 新北市土城区自由街2号