图案形成方法及光阻组成物与缩醛化合物

摘要

本发明系关于一种图案形成方法，其特征为：将含有包含具有以酸不稳定基取代之羟基的重复单元的高分子化合物、酸产生剂、有机溶剂的光阻组成物涂布于基板上，在加热处理后以高能量射线曝光上述光阻膜，并于加热处理后使用利用有机溶剂的显影液，令未曝光部溶解，得到曝光部不溶解的负型图案。;含有包含具有以酸不稳定基取代之羟基的重复单元的高分子化合物与酸产生剂的光阻膜，在利用有机溶剂的显影之正负反转的图像形成中，具有未曝光部分的溶解性高，曝光部分之溶解性低，且溶解对比高的特征。藉由使用该光阻膜且使用格子状图案的遮罩曝光，并进行有机溶剂显影，而可有效地控制细微的孔图案之尺寸且以高感度形成。