| 摘要 |
<p>L'invention concerne un procédé de fabrication d'un film (4) comprenant une matrice (3) non magnétique et une pluralité de microstructures magnétiques tridimensionnelles (20) ordonnées au sein de ladite matrice selon un motif déterminé, comprenant les étapes de : - fourniture d'un substrat maître (1) comprenant une face (10) magnétiquement structurée constituée d'une pluralité de micro-sources (10a, 10b) de champ magnétique, présentant un gradient de champ magnétique compris entre 10 et 10 T/m, - apport, sur ladite face (10) dudit substrat maître, de micro ou nanoparticules magnétiques (2), lesdites particules s'agglomérant en microstructures tridimensionnelles ordonnées (20) sous l'effet de la force magnétophorétique attractive exercée par le gradient de champ magnétique à la surface du substrat maître, - dépôt sur la face (10) du substrat maître, d'une matrice (30) d'un matériau non magnétique, de sorte à englober lesdites microstructures ordonnées, - délaminage dudit film (4) vis-à-vis du substrat maître.</p> |
