发明名称 Geladener Teilschenstrahl-Lithographie-Vorrichtung und geladener Teilschenstrahl-Musterschreibverfahren
摘要 Eine Vorrichtung enthält eine Einheit zum Betreiben einer Anzahl von anderen Korrekturverarbeitungsabschnitten, die vor einem relevanten Korrekturverarbeitungsabschnitt beschrieben werden, zum Sicherstellen, dass eine Berechnungszeit zum Berechnen von Beträgen eines Temperaturanstiegs für alle Korrekturverarbeitungsabschnitte eine Musterschreibzeit für alle Korrekturverarbeitungsabschnitte nicht übersteigt durch Verwenden einer Mittelmusterschreibzeit, einer Mittelberechnungszeit für einen der Temperaturanstiegsbeträge, und eines Parallelitätsgrads von Computern zum Berechnen der Beträge eines Temperaturanstiegs; eine Einheit zum Berechnen einer repräsentativen Temperatur für den relevanten Korrekturverarbeitungsabschnitt basierend auf Wärmeleitungen von den anderen Korrekturverarbeitungsabschnitten der Anzahl; und eine Einheit zum Modulieren einer Dosis eines auf den relevanten Korrekturverarbeitungsabschnitt bestrahlten Strahles durch Verwenden der repräsentativen Temperatur.
申请公布号 DE102013209313(A1) 申请公布日期 2013.11.28
申请号 DE201310209313 申请日期 2013.05.21
申请人 NUFLARE TECHNOLOGY, INC. 发明人 NAKAYAMADA, NORIAKI
分类号 H01J37/28;H01J37/317;H01L21/027 主分类号 H01J37/28
代理机构 代理人
主权项
地址