发明名称 Struktur für FinFETs sowie System von SRAM-Zellen und Speicherzelle mit einer solchen Struktur
摘要 Ein SRAM-Array ist aus einer Vielzahl aus Gratleitungen gebildeter FinFETs ausgebildet. Jede Gratleitung ist in einem Substrat ausgebildet, wobei ein unterer Abschnitt der Gratleitung von einem Isolationsbereich umgeben ist, und wobei sich ein oberer Abschnitt der Gratleitung oberhalb einer Oberfläche des Isolationsbereiches erstreckt. In einer ersten Querschnittsansicht des SRAM-Arrays weist jede Gratleitung eine rechteckige Form auf. In einer zweiten Querschnittsansicht weisen die Anschlüsse jeder Gratleitung eine angeschrägte Form auf.
申请公布号 DE102012108290(B4) 申请公布日期 2013.11.28
申请号 DE201210108290 申请日期 2012.09.06
申请人 TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD. 发明人 LIAW, JHON-JHY
分类号 H01L27/11;H01L29/78 主分类号 H01L27/11
代理机构 代理人
主权项
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