| 发明名称 |
TITANIUM-CONTAINING PRECURSORS FOR VAPOR DEPOSITION |
| 摘要 |
<p>Disclosed are titanium-containing precursors and methods of synthesizing the same. The precursors may be used to deposit titanium oxide, titanium silicon oxide and titanium-metal oxide containing layers using vapor deposition methods such as chemical vapor deposition or atomic layer deposition.</p> |
| 申请公布号 |
WO2013177292(A1) |
申请公布日期 |
2013.11.28 |
| 申请号 |
WO2013US42244 |
申请日期 |
2013.05.22 |
| 申请人 |
L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE;PALLEM, VENKATESWARA, R. |
发明人 |
PALLEM, VENKATESWARA, R. |
| 分类号 |
C23C16/06;C23C16/448 |
主分类号 |
C23C16/06 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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