发明名称 Abbildende Optik sowie Projektionsbelichtungsanlage für die Projektionslithographie mit einer derartigen abbildenden Optik
摘要 Eine abbildende Optik dient zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld. Die abbildende Optik hat eine obskurierte Pupille (21). Diese Pupille (21) hat ein Zentrum (Z), das von einem Hauptstrahl eines zentralen Feldpunktes durchtreten wird. Weiterhin hat die abbildende Optik eine Mehrzahl abbildender optischer Komponenten. Ein Schwerpunkt (SP) eines zusammenhängenden Pupillen-Obskurationsbereichs (18) der abbildenden Optik liegt dezentral in der Pupille (21) der abbildenden Optik. Gemäß einem weiteren Aspekt ist die abbildende Optik katoptrisch mit einem letzten Spiegel mit einer Durchgangsöffnung zum Durchtritt von Abbildungslicht ausgebildet. Ein die Durchtrittsöffnung umgebender Randbereich einer Reflexionsfläche des letzten Spiegels ist zusammenhängend zur Reflexion des Abbildungslichts genutzt. Ein im Abbildungsstrahlengang vorletzter Spiegel ist mit geschlossen, also öffnungsfrei, genutzter Reflexionsfläche ausgebildet. Die Durchtrittsöffnung ist derart angeordnet, dass hierdurch ein Pupillen-Obskurationsbereich (18) erzeugt wird, der nicht zentral in der Pupille (21) der abbildenden Optik liegt. Mit derartigen abbildenden Optiken resultiert ein gut korrigiertes abbildbares Feld bei gleichzeitig hohem Abbildungslicht-Durchsatz.
申请公布号 DE102012208793(A1) 申请公布日期 2013.11.28
申请号 DE201210208793 申请日期 2012.05.25
申请人 CARL ZEISS SMT GMBH 发明人 EPPLE, ALEXANDER;MUELLER, RALF;ROSTALSKI, HANS-JUERGEN
分类号 G02B17/00;G03F7/20 主分类号 G02B17/00
代理机构 代理人
主权项
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