发明名称 阵列基板及其制造方法、显示装置
摘要 本发明实施例公开了一种阵列基板及其制造方法,以及设有该阵列基板的显示装置,属于显示技术领域。解决了现有技术中GOA区域的边缘会形成向下开口的倒角,影响GOA区域中源漏极金属与栅极金属之间电连接的稳定性的技术问题。该阵列基板,包括显示区域和GOA区域,在所述GOA区域,从下至上依次形成有栅极金属、栅绝缘层、有源层、过渡层、源漏极金属,且开设有贯穿所述过渡层、所述有源层和所述栅绝缘层的过孔,所述源漏极金属通过所述过孔与所述栅极金属电连接;其中,所述过渡层的刻蚀速率大于所述有源层的刻蚀速率。本发明应用于OLED面板、液晶电视、液晶显示器、手机、平板电脑等显示装置。
申请公布号 CN103413811A 申请公布日期 2013.11.27
申请号 CN201310310000.7 申请日期 2013.07.23
申请人 北京京东方光电科技有限公司 发明人 李田生;郭建;谢振宇
分类号 H01L27/12(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I 主分类号 H01L27/12(2006.01)I
代理机构 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人 申健
主权项 一种阵列基板,包括显示区域和GOA区域,其特征在于:在所述GOA区域,从下至上依次形成有栅极金属、栅绝缘层、有源层、过渡层、源漏极金属,且开设有贯穿所述过渡层、所述有源层和所述栅绝缘层的过孔,所述源漏极金属通过所述过孔与所述栅极金属电连接;其中,所述过渡层的刻蚀速率大于所述有源层的刻蚀速率。
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