| 发明名称 | 曝光装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。 | ||
| 申请公布号 | CN101644900B | 申请公布日期 | 2013.11.27 |
| 申请号 | CN200810173396.4 | 申请日期 | 2004.07.26 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 马込伸贵;小林直行;榊原康之;高岩宏明 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 许海兰 |
| 主权项 | 一种通过液体将曝光用光照射到基板对基板进行曝光的曝光装置，其特征在于包括：投影光学系统，通过液体将图形像投影到所述基板上；以及吸气口，配置在所述投影光学系统下方，藉由与吸引系统的连接使气体流入，为了防止所述液体与所述气体一起流入所述吸气口，当检测到异常时停止来自所述吸气口的所述气体的流入。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||