| 发明名称 | 基于紫外线的清洗方法及清洗装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种基于紫外线的清洗方法及清洗装置，所述方法包括：步骤1、对待清洗基板进行紫外线照射，并控制该紫外线的输出能量，以控制在照射时间内待清洗基板上的TFT元器件图形吸收到的光子能量小于TFT元器件图形击穿所需要的电子激发电量；步骤2、采用碱性溶液对该待清洗基板进行清洗；步骤3、采用水气二流体对该待清洗基板进行清洗；步骤4、采用去离子水对该待清洗基板进行清洗；步骤5、对该待清洗基板进行风刀干燥；步骤6、对该待清洗基板进行去水干燥，完成清洗，提高了产品良率及洗净度。 | ||
| 申请公布号 | CN103406302A | 申请公布日期 | 2013.11.27 |
| 申请号 | CN201310372881.5 | 申请日期 | 2013.08.23 |
| 申请人 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 发明人 | 姚江波;李春良 |
| 分类号 | B08B3/08(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I | 主分类号 | B08B3/08(2006.01)I |
| 代理机构 | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人 | 林才桂 |
| 主权项 | 一种基于紫外线的清洗方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1、对待清洗基板进行紫外线照射，并控制该紫外线的输出能量，以控制在照射时间内待清洗基板上的TFT元器件图形吸收到的光子能量小于TFT元器件图形击穿所需要的电子激发电量；步骤2、采用碱性溶液对该待清洗基板进行清洗；步骤3、采用水气二流体对该待清洗基板进行清洗；步骤4、采用去离子水对该待清洗基板进行清洗；步骤5、对该待清洗基板进行风刀干燥；步骤6、对该待清洗基板进行去水干燥，完成清洗。 | ||
| 地址 | 518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9—2号 | ||