| 摘要 |
Устройство для напыления пленок на подложки, содержащее формирователь плазменного потока, вакуумную камеру, в которой размещены мишень, основание и крепежные элементы, отличающееся тем, что мишень состоит из двух пластин, первая из которых установлена наклонно к основанию, а вторая закреплена посредством крепежных элементов параллельно основанию, при этом наклонная пластина установлена со смещением по горизонтали своего верхнего торца относительно торца второй пластины с образованием щелевой диафрагмы и со смещением по вертикали упомянутого верхнего торца над уровнем расположения первой пластины с образованием вертикального зазора, обеспечивающего проникновение центрального ядра плазменного потока во внутреннее пространство под упомянутыми пластинами, причем основание и пластины выполнены с возможностью закрепления на них подложек, при этом на пластинах - на их нижней поверхности с возможностью обеспечения воздействия турбулентного потока паров напыляемого материала на поверхности подложек при обеспечении экранирования указанных подложек от прямого воздействия плазменного потока. |
