发明名称 喷淋头以及气相沉积反应腔
摘要 本发明公开了一种喷淋头以及包括所述喷淋头的气相沉积反应腔。所述反应腔包括气体反应区域,所述喷淋头邻近所述反应区域设置,所述喷淋头用于向所述反应区域输出反应气体,所述喷淋头包括相互隔离的III族源气体腔和V族源气体腔,所述V族源气体腔邻近所述反应区域设置,所述III族源气体腔设置于所述V族源气体腔背离所述反应区域的一侧;所述III族源气体腔和V族源气体腔之间至少具有两个相互隔离、层叠设置的冷却腔,所述的至少两个冷却腔用于对从所述V族源气体腔一侧传来的热量进行冷却。因此,能够使得喷淋头内的温度较为缓和的变化,降低对连接III族源气体腔的第一气管的影响,提高了喷淋头整体的可靠性。
申请公布号 CN103409731A 申请公布日期 2013.11.27
申请号 CN201310360282.1 申请日期 2013.08.16
申请人 光垒光电科技(上海)有限公司 发明人 谭华强;黄允文;乔徽;林翔;苏育家
分类号 C23C16/455(2006.01)I 主分类号 C23C16/455(2006.01)I
代理机构 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人 郑玮
主权项 一种应用于沉积III‑V族材料反应腔的喷淋头,所述反应腔包括气体反应区域,所述喷淋头邻近所述反应区域设置,所述喷淋头用于向所述反应区域输出反应气体,所述喷淋头包括相互隔离的III族源气体腔和V族源气体腔,所述V族源气体腔邻近所述反应区域设置,所述III族源气体腔设置于所述V族源气体腔背离所述反应区域的一侧;其特征在于,所述III族源气体腔和V族源气体腔之间至少具有两个相互隔离、层叠设置的冷却腔,所述的至少两个冷却腔用于对从所述V族源气体腔一侧传来的热量进行冷却。
地址 200050 上海市长宁区延安西路889号1106B室
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