| 发明名称 | 薄膜沉积制备方法以及纳米纤维结构柔性缓冲层制备方法 | ||
| 摘要 | 薄膜沉积制备方法以及纳米纤维结构柔性缓冲层制备方法，属于材料技术领域，本发明包括升温步骤、沉积步骤，其特征在于，沉积步骤中，沉积源的法线与基片表面法线的夹角为30°～80°。本发明的有益效果是，提供了一种性能良好的热应力释放机制，采用本发明制备的纳米纤维结构Al2O3柔性缓冲层薄膜具有良好的柔性和绝缘性，氧扩散系数小。 | ||
| 申请公布号 | CN103409723A | 申请公布日期 | 2013.11.27 |
| 申请号 | CN201310269857.9 | 申请日期 | 2013.06.29 |
| 申请人 | 电子科技大学 | 发明人 | 刘兴钊;张万里;蒋洪川;蒋书文;李言荣 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I;C23C14/30(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;F01D5/28(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 成都惠迪专利事务所 51215 | 代理人 | 刘勋 |
| 主权项 | 薄膜沉积制备方法，包括升温步骤、沉积步骤，其特征在于，沉积步骤中，沉积源的法线与基片表面法线的夹角为30°～80°。 | ||
| 地址 | 610041 四川省成都市高新区（西区）西源大道2006号 | ||