发明名称 台系统校准方法、台系统和包括这样的台系统的光刻设备
摘要 本发明公开了一种台系统校准方法、台系统和包括这样的台系统的光刻设备。其中台系统包括编码器测量系统,所述编码器测量系统包括编码器网格和与所述编码器网格协同工作的至少两个传感器头,每个传感器头提供了表示在水平方向和垂直方向上的位置灵敏度的传感器头输出信号,所述方法包括:a)移动所述台,使得所述传感器头相对于所述编码器网格被移动,反之亦然;b)在所述移动期间,通过所述两个传感器头测量所述台相对于所述编码器网格的位置;c)由所述传感器头的传感器头输出信号确定垂直位置数据分布图;d)由所述垂直位置数据分布图计算水平位置数据分布图;和e)利用所述已计算的水平位置数据分布图,校准所述编码器位置测量系统。
申请公布号 CN101561638B 申请公布日期 2013.11.27
申请号 CN200910133536.X 申请日期 2009.04.10
申请人 ASML荷兰有限公司 发明人 汉斯·巴特勒;恩格尔伯塔斯·安东尼纳斯·弗朗西丝克斯·范德帕斯奇
分类号 G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 王新华
主权项 一种用于校准台的编码器位置测量系统的校准方法,所述编码器位置测量系统包括编码器网格和与所述编码器网格协同工作的至少两个传感器头,每个传感器头提供了表示在水平方向和垂直方向上的位置灵敏度的传感器头输出信号,所述方法包括步骤:移动所述台,使得所述传感器头相对于所述编码器网格被移动或所述编码器网格相对于所述传感器头被移动;在所述移动期间,通过使用所述编码器网格和所述传感器头测量所述台的位置;由所述传感器头的传感器头输出信号确定垂直位置数据分布图;由所述垂直位置数据分布图计算水平位置数据分布图;和根据所述已计算的水平位置数据分布图,校准所述编码器位置测量系统。
地址 荷兰维德霍温