| 摘要 |
1. Устройство для напыления пленок на подложки, содержащее формирователь плазменного потока, вакуумную камеру, в которой размещены мишени, основание и крепежные элементы, отличающееся тем, что первая мишень расположена на основании с обеспечением расположения подложек по сторонам первой мишени под углом к основанию и обеспечением воздействия плазменного потока на поверхность указанной мишени, вторая мишень выполнена в виде пластинчатой диафрагмы с отверстием для вырезания центрального ядра плазменного потока и закреплена посредством крепежных элементов параллельно основанию с экранированием подложек от прямого воздействия плазменного потока с обеспечением воздействия турбулентного плазменного потока на упомянутые подложки.2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что отверстие во второй мишени выполнено круглой формы, первая мишень выполнена квадратной формы.3. Устройство по п.1, отличающееся тем, что мишени выполнены из различных металлов. |
