用于原子层沉积的装置和方法

摘要

一种用于在片状基材的表面上进行原子层沉积的装置，包括：喷射头，其包括设有前体供应部和前体排出部的沉积空间；所述供应部和排出部布置成将前体气流从前体供应部经由沉积空间提供至前体排出部；该沉积空间在使用中由喷射头和基材表面定界；气体承载部，其包括布置成将承载气体喷射到喷射头与基材表面之间的承载气体喷射器，承载气体由此形成气体承载部；和输送系统，其提供基材和喷射头的沿基材的平面的相对移动以形成输送平面，基材沿该输送平面输送。支承部分与喷射头相对地布置，支承部分构造成提供使输送平面中的喷射头气体承载部平衡的气体承载压力布置，使得基材通过所述气体承载压力布置而在喷射头与支承部分之间被保持成是无支承的。

主权项

一种用于在片状基材的表面上进行原子层沉积的装置，所述装置包括：‑喷射头，所述喷射头包括沉积空间，所述沉积空间设置有前体供应部和前体排出部；所述供应部和所述排出部布置成用于将前体气体流从所述前体供应部经由所述沉积空间供应至所述前体排出部；所述沉积空间在使用中由所述喷射头和所述基材表面定界；气体承载部，所述气体承载部包括承载气体喷射器，所述承载气体喷射器布置成用于将所述承载气体喷射到所述喷射头与所述基材表面之间，所述承载气体由此形成气体承载部；‑支承部分，所述支承部分与所述喷射头相对地布置，所述支承部分构造成提供气体承载压力布置，所述气体承载压力布置抵抗输送平面中的喷射头气体承载压力，使得所述基材通过所述气体承载压力布置而在所述喷射头与所述支承部分之间被平衡成是无支承的；以及‑输送系统，所述输送系统包括驱动部段（18）；所述驱动部段包括运输元件，所述运输元件布置成提供所述基材和所述喷射头的沿所述基材的平面的相对移动；所述驱动部段的所述运输元件包括至少一个进气口和至少一个出气口以形成驱动袋区，所述驱动袋区提供定向气流以提供所述相对移动；所述至少一个进气口面对待处理的基材的表面；所述至少一个进气口布置成用于提供反应物，以在所述驱动部段中提供用于与供应在所述沉积空间中的所述前体起反应的反应物。