发明名称 |
一体型气相掺杂装置 |
摘要 |
本实用新型所述的一种一体型气相掺杂装置,是用于直拉法生产易挥发掺杂元素单晶硅生产过程中砷、磷等元素的掺杂,该掺杂装置主要由上部挂件(1)、中部空腔(2)、掺杂导管(5)、石英罩(7)构成;中部空腔(2)内设有一个掺杂导管(5),通过掺杂导管(5)将掺杂元素(4)装入中部空腔(2)内,中部空腔(2)的下端设有与掺杂导管(5)连在一起的石英罩(7)可起到保护硅熔体溅起破坏或污染热屏的作用,同时也可起到阻止掺杂元素(4)的蒸气被真空泵抽走的作用。使用本实用新型,增加了掺杂元素(4)与熔硅的接触时间,提高了掺杂效率,操作方便,安全性能好,克服了现有技术中气相掺杂效率低、掺杂装置易损坏的问题。 |
申请公布号 |
CN203307477U |
申请公布日期 |
2013.11.27 |
申请号 |
CN201320275201.3 |
申请日期 |
2013.05.20 |
申请人 |
洛阳单晶硅有限责任公司 |
发明人 |
令狐铁兵;张明亮;高林育;仝泉 |
分类号 |
C30B15/04(2006.01)I;C30B29/06(2006.01)I |
主分类号 |
C30B15/04(2006.01)I |
代理机构 |
洛阳明律专利代理事务所 41118 |
代理人 |
卢洪方 |
主权项 |
一体型气相掺杂装置,其特征是:所述的一体型气相掺杂装置主要是由上部挂件(1)、中部空腔(2)、掺杂导管(5)、石英罩(7)构成;其中上部挂件(1)设置在中部空腔(2)的上端与单晶炉上轴连接,掺杂导管(5)的上部设置在中部空腔(2)内,下部连接有石英罩(7)。 |
地址 |
471009 河南省洛阳市西工区九都路77号 |