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发明名称
Method of removing negative acting photoresists
摘要
<p>Polymerized negative acting photoresists are removed from substrates at relatively low temperatures and fast stripping times using aqueous based alkaline solutions.</p>
申请公布号
EP2667254(A1)
申请公布日期
2013.11.27
申请号
EP20130168681
申请日期
2013.05.22
申请人
ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC
发明人
CICCOLO, PAUL J.;AMOS, BRIAN D.;MCCAMMON, STEPHEN
分类号
G03F7/42
主分类号
G03F7/42
代理机构
代理人
主权项
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