发明名称 一种集成电路制造设备的零部件的阳极膜的制造方法
摘要 本发明公开了一种集成电路制造设备的零部件的阳极膜的制造方法,包括以下步骤:选择一矩形的铝合金板为阳极膜的底材;将底材放入有机溶液中进行表面清洗;将底材放入氢氧化钠溶液中进行硷洗;对底材的表面进行研磨;对底材的表面进行喷射,使底材的表面粗糙度为1μm以下;将底材放入含有浓度为10%的硫酸溶液的阳极槽中,在相同的电压下依不同阶段给予硫酸溶液不同的电流,对底材进行阳极氧化处理而成膜;将阳极膜放入100℃的开水中进行30~60分钟的封孔处理,得到厚度为50μm~60μm的阳极膜。本发明的阳极膜的制造方法,得到的较薄的阳极膜达到厚阳极膜具有的高抗腐蚀性、高抗电压性、高耐磨性,达到对零部件保护的目的。
申请公布号 CN103409784A 申请公布日期 2013.11.27
申请号 CN201310370257.1 申请日期 2013.08.22
申请人 上海科秉电子科技有限公司 发明人 吕永照
分类号 C25D11/08(2006.01)I;C25D11/16(2006.01)I;C25D11/18(2006.01)I 主分类号 C25D11/08(2006.01)I
代理机构 上海兆丰知识产权代理事务所(有限合伙) 31241 代理人 黄美英
主权项 一种集成电路制造设备的零部件的阳极膜的制造方法,其特征在于,所述制造方法包括以下步骤:底材选择步骤,选择一矩形的铝合金板为阳极膜的底材;清洗步骤,将底材放入有机溶液中进行表面清洗;硷洗步骤,将底材放入氢氧化钠溶液中进行硷洗;研磨步骤,对底材的表面进行研磨,去除表面不平整,使底材的表面光滑;粗化处理步骤,采用喷砂机以玻璃砂为磨料对底材的表面进行喷射,对底材的表面进行细微粗化处理,使底材的表面粗糙度为1μm以下;成膜步骤,将底材放入含有浓度为10%的硫酸溶液的阳极槽中,在相同的电压下依不同阶段给予硫酸溶液不同的电流,对底材进行阳极氧化处理:先在10分钟内将电流从0加到10安培,其次在20分钟内将电流从10安培加到20安培,接着在10分钟内第一次将电流降到0,再在10分钟内将电流从0升到20安培,保持20分钟后在10分钟内将电流升到25安培,保持10分钟,又在10分钟内将电流加大到30安培,保持10分钟,然后在10分钟内第二次将电流降为0,又在10分钟内将电流加到30安培,保持20分钟,再在10分钟内将电流加到35安培,保持10分钟,又在10分钟内将电流加到40安培,保持10分钟,最后在10分钟内将电流降为0,结束成膜;封孔步骤,将阳极膜放入100℃的开水中进行30~60分钟的封孔处理,得到厚度为50μm~60μm的阳极膜。
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