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发明名称
钯错合物及利用其之触媒赋予处理液
摘要
本发明之目的为提供可使触媒金属被选择地吸附到羧基等的阴离子性基,而在非电导性树脂上形成选择的金属皮膜之技术;下式(I);【化1】;(1);(式中,L表示伸烷基,R表示胺基或胍基)所表示的钯错合物或其结构异构物;含彼当作有效成分的无电解镀敷之触媒赋予处理液;非导电性树脂上之镀金属皮膜形成方法,其为对于表面上形成有阴离子性基的非电导性树脂以上述触媒处理液进行触媒赋予处理后,进行还原处理、无电解镀金属及电解镀金属。
申请公布号
TWI415680
申请公布日期
2013.11.21
申请号
TW095142422
申请日期
2006.11.16
申请人
荏原优莱特科技股份有限公司 日本
发明人
高德诚;滨田实香
分类号
B01J31/16;C07F15/00;C23C18/28;C25D5/56
主分类号
B01J31/16
代理机构
代理人
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址
日本
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