曝光系统及其调校方法

摘要

一种曝光系统，包括一第一雷射光源、一第二雷射光源、一聚焦模组、一像散产生元件及一光侦测器。第一雷射光源适于发出一第一雷射光束，第二雷射光源适于发出一第二雷射光束。聚焦模组包括一聚光单元，配置于第一雷射光束与第二雷射光束的传递路径上，以将第一雷射光束与第二雷射光束投射于一材料。;至少部分第一雷射光束反射成一第一反射光束。聚光单元与像散产生元件配置于第一反射光束的传递路径上。光侦测器配置于来自像散产生元件的第一反射光束之传递路径上，且与聚焦模组电性连接。一种曝光系统的调校方法亦被提出。