发明名称 |
电荷平衡场效应电晶体 |
摘要 |
形成一电场场效应电晶体之方法如下:提供一第一传导类型之一半导体区,该半导体区具有在其上延伸之一第二传导类型之一磊晶层。形成延伸穿过该磊晶层并终止于该半导体区内之一沟槽。以双途斜角植入方式执行该第一传导类型之掺质步骤,藉此沿该沟槽侧壁形成该第一传导类型之一区。以临界电压调整植入方式执行该第二传导类型之掺质步骤,藉此将沿该沟槽上侧壁延伸之该第一传导类型区之一部分之一导体类型转换成该第二传导类型。形成侧接该沟槽各侧壁之该第一传导类型之源区。 |
申请公布号 |
TWI416741 |
申请公布日期 |
2013.11.21 |
申请号 |
TW095120583 |
申请日期 |
2006.06.09 |
申请人 |
快捷半导体公司 美国 |
发明人 |
耶马兹 汉萨;卡拉福特 丹尼尔;塞帕 史蒂芬P. SAPP, STEVEN P. US;克拉特 纳森;查拉 亚索克 |
分类号 |
H01L29/94;H01L21/8238;H01L29/66 |
主分类号 |
H01L29/94 |
代理机构 |
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代理人 |
恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼 |
主权项 |
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地址 |
美国 |