发明名称 氮化物半导体装置及其制造方法
摘要 本发明是提供具有在电极间不会发生电阻成分的P电极的氮化物半导体装置及其制造方法。P电极12是由一第一钯膜13、一钽膜14及第二钯膜15所构成,并形成于由氮化物半导体所构成的一P型接触层11上。在第二钯膜15上,形成一垫电极22。第二钯膜15是全面性地形成于构成P电极12的钽膜14上,其具有防止钽膜14的氧化之抗氧化膜的功能。藉由此一第二钯膜15可以防止钽膜14的氧化,因此可以抑制发生于P电极12与垫电极22之间的电阻成分。藉此可以防止P电极12与垫电极22的接触不良,因而可以实现低电阻的P电极12。
申请公布号 TWI416602 申请公布日期 2013.11.21
申请号 TW097141563 申请日期 2008.10.29
申请人 三菱电机股份有限公司 日本 发明人 塩沢胜臣;金本恭三;黑川博志;德田安纪;蔵本恭介;佐久间仁
分类号 H01L21/28 主分类号 H01L21/28
代理机构 代理人 洪澄文 台北市南港区三重路19之6号2楼
主权项
地址 日本