发明名称 |
光学积层体及光学积层体之制造方法 |
摘要 |
本发明系提供一种光学积层体,可一面有效地抑制乃至于防止干涉条纹之出现、一面可发挥高的表面硬度。;本发明之光学积层体系于透光性基材上至少形成有(1)邻接于上述基材之硬涂层A及(2)硬涂层B者,其特征在于:上述基材与硬涂层A之界面实质上不存在。 |
申请公布号 |
TWI416158 |
申请公布日期 |
2013.11.21 |
申请号 |
TW096111152 |
申请日期 |
2007.03.30 |
申请人 |
大日本印刷股份有限公司 日本 |
发明人 |
堀尾智之;上野健治 |
分类号 |
G02B1/11;B32B7/02;B32B27/00 |
主分类号 |
G02B1/11 |
代理机构 |
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代理人 |
桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼 |
主权项 |
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地址 |
日本 |