发明名称 光学积层体及光学积层体之制造方法
摘要 本发明系提供一种光学积层体,可一面有效地抑制乃至于防止干涉条纹之出现、一面可发挥高的表面硬度。;本发明之光学积层体系于透光性基材上至少形成有(1)邻接于上述基材之硬涂层A及(2)硬涂层B者,其特征在于:上述基材与硬涂层A之界面实质上不存在。
申请公布号 TWI416158 申请公布日期 2013.11.21
申请号 TW096111152 申请日期 2007.03.30
申请人 大日本印刷股份有限公司 日本 发明人 堀尾智之;上野健治
分类号 G02B1/11;B32B7/02;B32B27/00 主分类号 G02B1/11
代理机构 代理人 桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项
地址 日本