发明名称 含有羟化四烷基铵之显影废液的中和方法
摘要 本发明系在于使溶解来自光阻剂之有机物之含有羟化四烷基铵之显影废液,与二氧化碳气体反应中和之方法,提供可有效防止在中和时于塔内因抗蚀剂的析出而塞住,可将中和时所析出的抗蚀剂高效率地过滤去除之中和方法为目的。在于达成所关目的之本发明之中和方法,藉由对溶解来自光阻剂之有机物之pH为13以上的含有羟化四烷基铵之显影废液,加入二氧化碳气体中和至pH成11.5以下之含有羟化四烷基铵之显影废液的中和方法,使上述显影废液的pH由13之时点至到达12之时点之二氧化碳气体之添加量,以在于pH为13之时点之显影废液中的含有羟化四烷基铵每1莫耳,0.15L/hr以下进行。
申请公布号 TWI416278 申请公布日期 2013.11.21
申请号 TW096142218 申请日期 2007.11.08
申请人 德山股份有限公司 日本 发明人 山下喜文;大城户始;中本达也
分类号 G03F7/26;C02F1/66;C07C209/82 主分类号 G03F7/26
代理机构 代理人 洪澄文 台北市南港区三重路19之6号2楼
主权项
地址 日本