抗蚀下层膜形成用组成物、抗蚀下层膜之形成方法、及图型之形成方法

摘要

[课题]本发明系提供一种抗蚀下层膜形成用组成物，其特征为其系微影术所使用之多层抗蚀膜之抗蚀下层膜材料，且其在基板之阶层填埋性优良，具有耐溶剂性，不仅可以防止基板在蚀刻中所发生之皱折，因此系用以形成在蚀刻后之图型粗糙度相当良好之抗蚀下层膜者；及提供一种使用其之抗蚀下层膜形成方法、以及图型形成方法。;[解决手段]一种抗蚀下层膜形成用组成物，其特征为至少含有：将以下一般式(1)所示之化合物及以下一般式(2)所示之化合物以酸触媒进行缩合所得到之树脂(A)、以下一般式(1)所示之化合物(B)、富勒烯化合物(C)及有机溶剂，;R7-CHO　(2);【化1】;(1)