Halbleitervorrichtung mit einer Silikatglasstruktur und Verfahren zum Herstellen einer Halbleitervorrichtung

摘要

Eine Halbleitervorrichtung umfasst einen Halbleiterkörper (105) mit einer ersten Oberfläche (110). Die Halbleitervorrichtung umfasst weiterhin eine kontinuierliche Silikatglasstruktur (115) über der ersten Oberfläche (110). Ein erster Teil (115a) der kontinuierlichen Glasstruktur (115) über einem aktiven Gebiet (105a) des Halbleiterkörpers (105) umfasst eine erste Zusammensetzung von Dotierstoffen, die von einer zweiten Zusammensetzung von Dotierstoffen in einem zweiten Teil (115b) der kontinuierlichen Glasstruktur (115) über einem Gebiet (105b) des Halbleiterkörpers (105) außerhalb des aktiven Gebietes (105a) verschieden ist.