| 发明名称 | 低折射率膜形成用组合物、低折射率膜的形成方法以及通过该形成方法而形成的低折射率膜以及抗反射膜 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种低折射率膜形成用组合物，其即使单层涂布也具有优异的抗反射功能，且不对环境造成影响，该低折射率膜形成用组合物的特征在于，其包含(A)无机聚硅氮烷以及(B)从含硅氮烷的有机聚合物、含硅氧硅氮烷的有机聚合物、含脲硅氮烷的有机聚合物中选出的至少一种有机聚合物，(A):(B)的重量比为40:60～17:83。 | ||
| 申请公布号 | CN103403112A | 申请公布日期 | 2013.11.20 |
| 申请号 | CN201280010918.3 | 申请日期 | 2012.02.27 |
| 申请人 | AZ电子材料IP（日本）株式会社 | 发明人 | 尾崎祐树 |
| 分类号 | C09D183/16(2006.01)I;B32B27/00(2006.01)I;C08G77/62(2006.01)I;C09D1/00(2006.01)I;C09D7/12(2006.01)I;G02B1/11(2006.01)I | 主分类号 | C09D183/16(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三幸商标专利事务所 11216 | 代理人 | 刘激扬 |
| 主权项 | 一种低折射率膜形成用组合物，其特征在于，其包含：(A)无机聚硅氮烷；以及(B)从含硅氮烷的有机聚合物、含硅氧硅氮烷的有机聚合物、含脲硅氮烷的有机聚合物中选出的至少一种有机聚合物，(A):(B)的重量比为40:60～17:83。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||