发明名称 |
一种阵列基板及其制备方法、显示装置 |
摘要 |
本发明公开了一种阵列基板及其制备方法、显示装置,涉及显示领域。所述阵列基板,包括:基板,形成在所述基板一侧的薄膜晶体管和钝化层,并且所述阵列基板划分为反射区和透射区;所述钝化层远离所述基板一侧的反射区形成有绝缘层;所述绝缘层远离所述基板的一侧形成有用于对入射光进行漫反射的纳米粒子层。所述纳米粒子层的厚度均匀,不会产生不平整表面而影响液晶分子在所述纳米粒子层表面的取向均匀性,所述阵列基板不仅增加了视角,还保证了透过率、对比度以及暗态均匀性等性能,特别适用于大尺寸户外显示的显示装置。 |
申请公布号 |
CN103400837A |
申请公布日期 |
2013.11.20 |
申请号 |
CN201310322536.0 |
申请日期 |
2013.07.29 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司 |
发明人 |
王新星;柳在健;姚继开 |
分类号 |
H01L27/02(2006.01)I;H01L29/786(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/02(2006.01)I |
代理机构 |
北京路浩知识产权代理有限公司 11002 |
代理人 |
王莹 |
主权项 |
一种阵列基板,包括:基板,形成在所述基板一侧的薄膜晶体管和钝化层,并且所述阵列基板划分为反射区和透射区;其特征在于,所述钝化层远离所述基板一侧的反射区形成有绝缘层;所述绝缘层远离所述基板的一侧形成有用于对入射光进行漫反射的纳米粒子层。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |