一种制备二维纳米薄膜的设备

摘要

本发明公开了一种制备二维纳米薄膜的设备，包括物理气相沉积腔室、进料腔室、化学气相沉积腔室和样品传递装置。腔室之间设有阀门，样品通过样品传递装置可以在各腔室之间传递；化学气相沉积腔室设有加热装置、气体连接口以及样品升降装置；物理气相沉积腔室设有物理气相沉积系统、样品升降装置、气体连接口；进料腔室设有样品处理装置；腔室还设有抽真空装置以及样品旋转装置。本设备结构简单、工作可靠，利用本设备，可以采用不同的技术方法可大面积地制备均匀、高性能的石墨烯、金属硫族化合物、硅烯、锗烯或氮化硼等二维纳米薄膜。

主权项

一种制备二维纳米薄膜的设备，包括化学气相沉积腔室(2)，进料腔室(4)，物理气相沉积腔室(6)和第一样品传递装置(1)和第二样品传递装置(8)，其特征在于：所述的进料腔室、化学气相沉积腔室、物理气相沉积腔室各腔室之间分别设有阀门，进料腔室设有与大气相通的阀门；所述的物理气相沉积腔室(6)设有一个或二个以上的气体连接口；所述的物理气相沉积腔室(6)设有物理气相沉积系统；所述的化学气相沉积腔室(2)设有加热装置(11)；所述的化学气相沉积腔室(2)设有一个或二个以上的气体连接口；所述的进料腔室(4)、物理气相沉积腔室(6)和化学气相沉积腔室(2)均设有样品升降装置；所述的进料腔室(4)、物理气相沉积腔室(6)和化学气相沉积腔室(2)中的至少一个腔室设有抽真空装置。