发明名称 包括频谱校准装置的光学气分析装置
摘要 本发明涉及一种光学气分析装置,其包括至少一个在管形的测量试管(3)中构成的、由被测气体通流的测量室(2),在入口侧设置的辐射源(1)沿着纵向透射该测量室,至少一个在出口侧设置的用于气体浓度分析的探测器(7)检测该辐射源的通过吸收损失而被衰减的光束,其中,设有用来借助参考频谱校准测量通路的校准装置,作为校准装置,滤光器(10)代替测量试管(3)被设置到测量通路中,该滤光器的滤光材料产生在测量光谱的整个波长范围上的多个强吸收,以便引起多个衰减(A1…An),所述衰减在相应的频谱位置中对应于大浓度的气态被测介质的衰减。
申请公布号 CN103403529A 申请公布日期 2013.11.20
申请号 CN201180065929.7 申请日期 2011.12.21
申请人 ABB股份公司 发明人 C·拉特克;G·蒂埃莱曼;N·威尔;W·吕迪格
分类号 G01N21/27(2006.01)I;G01N21/35(2006.01)I;G01N21/61(2006.01)I 主分类号 G01N21/27(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 董华林
主权项 光学气分析装置,其包括至少一个在管形的测量试管(3)中构成的、由被测气体通流的测量室(2),在入口侧设置的辐射源(1)沿着纵向透射该测量室,至少一个在出口侧设置的用于气体浓度分析的探测器(7)检测该辐射源的通过吸收损失而被衰减的光束,其中,设有用来借助参考频谱校准测量通路的校准装置,其特征在于,作为校准装置,滤光器(10)能代替测量试管(3)被设置到测量通路中,该滤光器的滤光材料产生在测量光谱的整个波长范围上的多个强吸收,以便引起多个衰减(A1…An),所述衰减在相应的频谱位置中对应于足够浓度的气态被测介质的衰减。
地址 德国曼海姆