发明名称 利用磁流变MR液抛光物体的边缘的装置和方法
摘要 本发明公开了一种用于抛光物体边缘的方法和装置,所述方法包括:提供至少一个支架,所述支架包括:限定凹槽的第一表面和相对的第二表面,所述的第一表面和相对的第二表面在第一方向上彼此被间隔开,以容纳所述边缘,以及磁场发生器,其被配置用于在所述凹槽内提供磁场,以便强化位于所述凹槽内的磁流变液,从而提供至少一个抛光区;在所述抛光区内容纳所述边缘;以及在实质垂直于所述第一方向的第二方向上驱动所述至少一个支架和所述边缘之间的相对运动。
申请公布号 CN103402704A 申请公布日期 2013.11.20
申请号 CN201180064901.1 申请日期 2011.11.15
申请人 新加坡科技研究局 发明人 万育明·斯蒂芬;佐藤隆史
分类号 B24B35/00(2006.01)I;B24B1/00(2006.01)I 主分类号 B24B35/00(2006.01)I
代理机构 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人 郑小粤
主权项 一种利用磁流变MR液抛光物体的边缘的装置,所述装置包括:至少一个支架,所述支架包括:限定凹槽的第一表面和相对的第二表面,所述第一表面和相对的第二表面沿着第一方向被间隔开,以容纳所述边缘;以及磁场发生器,其被配置成在所述凹槽内提供磁场,其中,在工作时,所述磁流变液被布置在所述凹槽内,并且响应于所述磁场而硬化,以提供至少一个抛光区;以及驱动器,其被配置成在实质垂直于所述第一方向的第二方向上在所述至少一个支架和所述物体的边缘之间提供相对运动,用于在所述至少一个抛光区抛光所述物体的所述边缘。
地址 新加坡新加坡城