发明名称 透明铌酸镁铋薄膜压控变容管的制备方法
摘要 本发明公开了一种透明铌酸镁铋薄膜压控变容管的制备方法:采用固相烧结法制备Bi1.5MgNb1.5O7靶材,烧成温度为1150~1180℃;再将清洁干燥的氧化铟锡玻璃衬底放入磁控溅射样品台上;使用Ar和O2作为溅射气体,沉积得到Bi1.5MgNb1.5O7薄膜,再于氧气气氛炉中进行后退火处理;然后利用掩膜版在Bi1.5MgNb1.5O7薄膜上面制备金属电极。本发明的变容管透明性高,调谐率适中,且器件稳定性好,制备工艺简单、电极性能优良,制备过程中无重金属中毒或污染现象,具有良好的应用前景。
申请公布号 CN103397303A 申请公布日期 2013.11.20
申请号 CN201310334109.4 申请日期 2013.07.31
申请人 天津大学 发明人 李玲霞;于仕辉;董和磊;许丹;金雨馨
分类号 C23C14/35(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I 主分类号 C23C14/35(2006.01)I
代理机构 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 代理人 张宏祥
主权项 一种透明铌酸镁铋薄膜压控变容管的制备方法,具体步骤如下:(1)采用固相烧结法制备Bi1.5MgNb1.5O7靶材按Bi1.5MgNb1.5O7对应元素的化学计量比称取原料Bi2O3,MgO和Nb2O5,充分混合后压制成型,置于电炉中于1150~1180℃烧制Bi1.5MgNb1.5O7靶材;(2)将清洁干燥的氧化铟锡玻璃衬底放入磁控溅射样品台上;(3)将磁控溅射系统的本底真空抽至P<9.0×10‑6Torr,然后加热衬底至400~700℃;(4)在步骤(3)系统中,使用Ar和O2作为溅射气体,溅射功率为100~200W,进行沉积得到Bi1.5MgNb1.5O7薄膜;(5)步骤(4)停止后,待衬底温度降至100℃以下时,取出样品,在氧气气氛炉中进行后退火处理;(6)步骤(5)结束后,在Bi1.5MgNb1.5O7薄膜上面利用掩膜版制备金属电极。
地址 300072 天津市南开区卫津路92号