发明名称 |
离线高透净色低辐射可钢镀膜玻璃及其制造方法 |
摘要 |
本发明公开了一种离线高透净色低辐射可钢镀膜玻璃,包括玻璃基片,玻璃基片上设有依次设有氮化硅SiNx、氧化锌铝ZnALOx、金属镍铬NiCr、金属银Ag、金属镍铬NiCr、氧化锌铝ZnAlOx、氮化硅SiNx;离线高透净色低辐射镀膜玻璃的制备方法为:在双端离线高真空磁控溅射镀膜设备中,使其基础真空达到10ֿ³Pa,线速度为3米/分钟时,在玻璃上依次溅射氮化硅SiNx、氧化锌铝ZnAlOx、金属镍铬NiCr、金属银Ag、金属镍铬NiCr、氧化锌铝ZnAlOx、氮化硅SiNx。本发明具有在实现膜层的低辐射率和低传热性能的基础上,能够同时实现膜层对自然光的高透过率82.5-83%的优点。 |
申请公布号 |
CN103396013A |
申请公布日期 |
2013.11.20 |
申请号 |
CN201310352798.1 |
申请日期 |
2013.08.14 |
申请人 |
江苏奥蓝工程玻璃有限公司 |
发明人 |
顾海波 |
分类号 |
C03C17/36(2006.01)I;B32B17/06(2006.01)I |
主分类号 |
C03C17/36(2006.01)I |
代理机构 |
南京正联知识产权代理有限公司 32243 |
代理人 |
顾伯兴 |
主权项 |
一种可钢离线高透净色低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基片,其特征在于:所述玻璃基片上依次设有第一氮化硅SiNx、第一氧化锌铝ZnAlOx、第一金属镍铬NiCr、金属银Ag、第二金属镍铬NiCr、第二氧化锌铝ZnAlOx、第二氮化硅SiNx,所述玻璃基片的厚度为3mm~15mm,所述第一氮化硅SiNx的厚度为37nm~45nm,所述第一氧化锌铝ZnAlOx的厚度为15nm~20nm,所述第一金属镍铬NiCr的厚度为1nm~5nm,所述金属银Ag的厚度为10nm~15nm,所述第二金属镍铬NiCr的厚度为1nm~5nm,所述第二氧化锌铝ZnAlOx的厚度为15nm~20nm,所述第二氮化硅SiNx的厚度为45nm~50nm。 |
地址 |
226001 江苏省南通市港闸区秦灶街道八里庙村八组 |