| 发明名称 | 镀覆预处理溶液及使用所述镀覆预处理溶液制造硬盘设备用的铝衬底的方法 | ||
| 摘要 | 本发明的目的是提供：一种镀覆预处理溶液，所述镀覆预处理溶液能够使用于硬盘设备的铝衬底的表面转变成适用于化学镀镍的表面；及一种使用镀覆预处理溶液来制造用于硬盘设备的铝衬底的方法。在用于硬盘设备的铝衬底的制造中用于镀覆预处理的本发明的镀覆预处理溶液具有0.1g/l-1.0g/l的浓度的铁离子和2.0wt%-12.0wt%的浓度的硝酸。这种镀覆预处理溶液被用于镀覆步骤的预处理，在所述镀覆步骤中，用于硬盘设备的铝衬底经历化学镀镍。因此，使用于硬盘设备的铝衬底的表面转变成适合用于化学镀Ni的表面，且当在镀覆步骤中进行化学镀镍时，通过抑制镀覆的表面上的波纹、结节及凹坑的产生，可以得到平滑的镀覆膜的表面。 | ||
| 申请公布号 | CN103403223A | 申请公布日期 | 2013.11.20 |
| 申请号 | CN201280006415.9 | 申请日期 | 2012.01.19 |
| 申请人 | 东洋钢钣株式会社 | 发明人 | 迎展彰;吉田隆广 |
| 分类号 | C23C18/18(2006.01)I;C23C18/36(2006.01)I | 主分类号 | C23C18/18(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人 | 武晶晶;郑霞 |
| 主权项 | 一种用于在制造硬盘设备用的铝衬底中的镀覆预处理中使用的镀覆预处理溶液，所述溶液包含0.1g/l‑1.0g/l的浓度的铁离子和2.0wt%‑12.0wt%的浓度的硝酸。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||