发明名称 УСТРОЙСТВО ДЛЯ ХИМИЧЕСКОГО ОСАЖДЕНИЯ ИЗ ГАЗОВОЙ ФАЗЫ, СОДЕРЖАЩЕЕ ЭЛЕКТРОД
摘要 1. Устройство для осаждения материала на подложку, имеющую первый конец и второй конец, отстоящие друг от друга, с захватными частями, расположенными на каждом конце подложки, содержащее:корпус, имеющий камеру;вход, выполненный в корпусе для введения газа в камеру;выход, выполненный в корпусе для выведения газа из камеры;по меньшей мере, один электрод, имеющий наружную поверхность и проходящий сквозь корпус, причем электрод, по меньшей мере, частично расположен в камере для соединения с захватной частью;источник питания, соединенный с электродом для подачи на него электрического тока;первое наружное покрытие, нанесенное на наружную поверхность электрода и имеющее удельную электропроводность, равную, по меньшей мере, 7·10Сименс/метр при комнатной температуре; ивторое наружное покрытие, отличающееся от первого наружного покрытия и нанесенное на первое наружное покрытие.2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что первое наружное покрытие включает металл, выбранный из группы, включающей никель, золото, платину, палладий, серебро, хром, титан и их сочетания.3. Устройство по п.1 или 2, отличающееся тем, что второе наружное покрытие имеет более высокую износостойкость, чем первое наружное покрытие, измеряемую в мм/Н*м по методике ASTM G99-5.4. Устройство по п.1 или 2, отличающееся тем, что наружная поверхность имеет контактную зону для контакта с захватной частью, причем первое наружное покрытие нанесено на контактную зону электрода, а второе наружное покрытие нанесено на первое наружное покрытие в указанной контактной зоне.5. Устройство по п.4, отличающееся тем, что второе наружное покрытие, нанесенное на первое наружное покрытие
申请公布号 RU2012114735(A) 申请公布日期 2013.11.20
申请号 RU20120114735 申请日期 2010.10.08
申请人 ХЕМЛОК СЕМИКЭНДАКТОР КОРПОРЕЙШН 发明人 ХИЛЛЕНБРЭНД Дэвид;МАККОЙ Кейт
分类号 C23C16/44 主分类号 C23C16/44
代理机构 代理人
主权项
地址