发明名称 |
FORMATION D'UN TAMPON DE POLISSAGE A BASE D'OXYDE DE METAL ALCALINO-TERREUX |
摘要 |
<p>L'invention met en jeu un procédé pour préparer un tampon de polissage contenant un oxyde de métal alcalino-terreux utile pour polir au moins l'un parmi des substrats semi-conducteurs, magnétiques, et optiques. Le procédé comprend l'introduction d'un courant d'alimentation de micro-éléments polymères remplis de gaz dans un jet de gaz, les micro-éléments polymères ayant une densité variable, une épaisseur de paroi variable et une granulométrie variable. Le procédé fait passer les micro-éléments polymères dans le jet de gaz adjacent à un bloc Coanda, le bloc Coanda ayant une paroi incurvée pour séparer les microéléments polymères avec effet Coanda, inertie, et résistance à l'écoulement de gaz. Il sépare ensuite divers constituants de type oxyde de métal alcalino-terreux à partir de la paroi incurvée du bloc Coanda pour nettoyer les micro-éléments polymères.</p> |
申请公布号 |
FR2990438(A1) |
申请公布日期 |
2013.11.15 |
申请号 |
FR20130054231 |
申请日期 |
2013.05.10 |
申请人 |
ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS CMP HOLDINGS, INC. |
发明人 |
ALDEN DONNA, M.;JAMES DAVID, B.;WANK ANDREW, R.;MURNANE JAMES |
分类号 |
C09G1/14;B24D3/34;H01L21/304 |
主分类号 |
C09G1/14 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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