| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Vermessung einer Zahnsituation (1) umfassend mehrere Implantate (2, 3, 4, 5) und/oder Präparationen zum Einsetzen von Zahnrestaurationen. Unter Verwendung eines ersten Messverfahrens wird zunächst ein erster Bereich (13) der Zahnsituation (1) erfasst, wobei erste Messdaten erzeugt werden. Der erste Bereich (13) ist so gewählt, dass er mindestens zwei Implantate (2, 3,4, 5) und/oder Präparationen umfasst. Anschließend werden Objektbereiche (17, 18, 19, 20) um die Implantate (2, 3, 4, 5) und/oder die Präparationen festgelegt, wobei unter Verwendung eines zweiten Messverfahrens die festgelegten Objektbereiche (17, 18, 19, 20) erfasst werden und zweite Messdaten erzeugt werden. Das zweite Messverfahren ist dabei präziser als das erste Messverfahren.</p> |
