| 摘要 |
<p>Es wird ein Infrarotstrahlung reflektierendes transparentes Schichtsystem auf einem transparenten, dielektrischen Substrat S0 und ein Verfahren zu dessen Herstellung angegeben, welches vom Substrat S0 aufwärts betrachtet eine Grundschichtanordnung GA mit einer dielektrischen Grundschicht GAG, einer darüber liegenden Funktionsschichtanordnung UFA mit einer metallischen Funktionsschicht UFAF und einer Blockerschicht UFAB und eine Deckschichtanordnung DA umfasst. Um die Materialkosten des Schichtsystems ohne Verlust in den optischen, mechanischen und thermischen Eigenschaften zu senken, enthält zumindest eine Funktionsschicht UFAF, MFAF,OFAF Kupfer und zumindest eine Funktionsschicht UFAF, MFAF,OFAF Silber.</p> |
