| 发明名称 | 成膜方法和成膜装置 | ||
| 摘要 | 在塑料基板上涂布包含膜成分的涂布组合物而形成涂布膜，对该涂布膜照射电磁波而将涂布膜干燥和/或改性，形成膜。作为膜，可以举出导电体膜、半导体膜、电介质膜，在形成导电体膜时使用包含金属纳米颗粒的涂布组合物，在形成半导体膜时使用有机半导体材料作为涂布组合物，在形成电介质膜时使用有机电介质材料作为涂布组合物。 | ||
| 申请公布号 | CN103392387A | 申请公布日期 | 2013.11.13 |
| 申请号 | CN201280010392.9 | 申请日期 | 2012.02.22 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 清水正裕;伊藤仁 |
| 分类号 | H05K3/22(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I;H01L21/3205(2006.01)I;H05K3/10(2006.01)I;H01L21/288(2006.01)I | 主分类号 | H05K3/22(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇;李茂家 |
| 主权项 | 一种成膜方法，其包括：在塑料基板上涂布包含膜成分的涂布组合物而形成涂布膜，对所述涂布膜照射电磁波而将涂布膜干燥和/或改性，形成膜。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||