| 发明名称 | 等离子体化学气相沉积镀膜设备送气系统 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开了一种等离子体化学气相沉积镀膜设备送气系统，涉及化学气相沉积镀膜技术领域。本实用新型包括一排支管道，所述支管道的一端均和进气管道的一侧连通，所述进气管道和总管道连通，支管道的上方设有一排出气孔，所述进气管道的另一侧还设有一排支管道，以上构成一组进气装置。本实用新型结构简单、送气均匀，能大大提高镀膜厚度的均一性，提高产品质量和生产率，降低成本，提高产品的合格率，便于批量生产。 | ||
| 申请公布号 | CN203284462U | 申请公布日期 | 2013.11.13 |
| 申请号 | CN201320250400.9 | 申请日期 | 2013.05.10 |
| 申请人 | 河北金宏阳太阳能科技股份有限公司 | 发明人 | 杨普磊;祖章旭;赵成林 |
| 分类号 | C23C16/455(2006.01)I;C23C16/513(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/455(2006.01)I |
| 代理机构 | 石家庄国为知识产权事务所 13120 | 代理人 | 夏素霞 |
| 主权项 | 一种等离子体化学气相沉积镀膜设备送气系统，包括一排支管道（4），所述支管道（4）的一端均和进气管道（3）的一侧连通，所述进气管道（3）和总管道（1）连通，支管道（4）的上方设有一排出气孔（5），其特征在于：所述进气管道（3）的另一侧还设有一排支管道（4），以上构成一组进气装置。 | ||
| 地址 | 054100 河北省邢台市沙河市东环路中段 | ||