一种用于电化学蚀刻高精细线路的无机盐蚀刻液

摘要

本发明公开了一种用于电化学蚀刻高精细线路的无机盐蚀刻液，它由下列物质制成：氯化钾、亚硝酸钾、磷酸钾、配位剂、添加剂和水。该无机盐蚀刻液各组分浓度精确，通过电化学蚀刻法可将印制电路板铜箔的精度控制在10μm以下，蚀刻精度高，蚀刻速度稳定、蚀刻均匀、蚀刻液易再生、污染少，且配制方法简单，生产成本低，适用范围广泛，具有很好的经济效益和社会效益。

主权项

一种用于电化学蚀刻高精细线路的无机盐蚀刻液，其特征在于：它由下列物质制成：氯化钾、亚硝酸钾、磷酸钾、配位剂、添加剂和水；所述的无机盐蚀刻液中氯化钾的浓度为40g/L、亚硝酸钾的浓度为40g/L、磷酸钾的浓度为40g/L、配位剂的浓度为100g/L、添加剂的浓度为100g/L；所述配位剂为羟基亚乙基二膦酸或柠檬酸钠；所述添加剂为丙酮；所述无机盐蚀刻液酸碱度呈中性，pH值为6～8。