| 摘要 |
本发明系有关于一种具有周期结构之矽基板之制造方法，包括：(A)提供一矽基板及复数奈米球，其中奈米球系排列于矽基板之表面；(B)形成一填充层于矽基板之部分表面及奈米球之间隙；(C)移除奈米球；(D)将填充层做为一蚀刻遮罩并蚀刻矽基板；(E)移除蚀刻遮罩，以于矽基板之表面形成一周期结构，其中周期结构系具有复数呈阵列状排列之微凹穴，微凹穴之形状系为一倒四角锥或一倒截头圆锥，倒四角锥之底边长度系介于100nm至2400nm之间，倒截头圆锥之直径系介于100nm至2400nm之间，且微凹穴之深度系介于100 nm至2400nm之间；以及(F)涂布一抗反射层于于矽基板及微凹穴之表面。 |
