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发明名称
一种包含下层矽树脂膜与上层矽树脂膜之基板
摘要
本发明提供一种,至少依顺序在有机膜之上形成防反射用矽树脂膜,于其上形成光阻膜之基板;防反射用矽树脂膜,兼备优越之光阻可混性与有机膜蚀刻时之高蚀刻耐性的双方,因此能形成更高精确度之图型的基板。;一种基板,其系至少依顺序在有机膜之上形成防反射用矽树脂膜,于其上形成光阻膜之基板;其特征为该防反射用矽树脂膜,包含下层矽树脂膜、与矽含量比该下层矽树脂膜少之上层矽树脂膜。
申请公布号
TWI414892
申请公布日期
2013.11.11
申请号
TW095144857
申请日期
2006.12.01
申请人
信越化学工业股份有限公司 日本
发明人
荻原勤;上田贵史
分类号
G03F7/11
主分类号
G03F7/11
代理机构
代理人
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址
日本
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